SK하이닉스는 24일 유형자산취득결정 공시를 내고 2025년 12월 1일까지 극자외선(EUV) 노광 장비 확보에 4조7549억원을 순차 투입할 예정이라고 밝혔다. 거래 상대방은 네덜란드 노광장비 업체 ASML이다. 이 같은 투입 금액이 자산총액에서 차지하는 비율은 7.34%다. 

SK하이닉스는 "취득가액은 장치 및 설치에 소요되는 총 예상금액"이라면서 "총 5년에 걸쳐 취득될 예정이며 개별 장비 취득 시마다 분할해 비용을 지불할 예정"이라고 밝혔다. 업계에서 추정하는 최신 EUV 장비의 대당 가격은 우리 돈 1500~1700억원선으로 알려져 있다. 여기에 붙는 부대장비 비용 등을 포함하면 총 EUV 장비 도입 대수는 20대 미만이 될 것으로 전문가들은 추정하고 있다.

SK하이닉스는 기존 보유하고 있는 연구용 EUV 장비 두 대를 개조 업그레이드해 지난 2월 1일 준공한 경기도 이천 신공장 M16에서 EUV 공정 적용 4세대 10나노미터급(1a) D램을 하반기부터 생산할 예정이다. 

삼성전자는 지난해부터 3세대 1z D램 제품에 EUV 공정을 일부 적용해 양산 출하하고 있다.