[차이나 브리프] 징루이, ArF 포토레지스트 개발 작업 공식화

○징루이 ArF 포토레지스트 및 고순도 시제 시세 양호
- 6월 22일, 징루이가 투자자 플랫폼을 통해 ArF 포토레지스트는 중간 테스트 완료, 고객사 테스트에 들어갔고 발표 
- 현재 해상도는 0.15μm 수준, 테스트 통과 후 양산에 들어갈 계획
- 90나노부터 28나노 칩 생산을 위한 프리미엄 ArF 포토레지스트연구 개발 공식적으로 시작 
- 징루이가 구매한 ASML XT 1900 Gi ArF 장비가 테스트 단계 중, 동시에 ArF 포토레지스트 연구 개발 진행
- I/G 포토레지스트는 8인치 차량용 칩의 생산에 활용 가능
- 현재 징루이의 i라인 포토레지스트는 이미 SMIC, 허페이창신, 스란웨이, 얀제과기 등의 업계 선두 고객사에게 납품하고 있음
- 징루이의 리튬배터리 소재 주요 제품에는 CMC 등 리튬배터리 접착제를 비롯해 NMP(N-메틸피라미드), 전해액 등이 포함
- 회사는 업계 주류 회사인 BYD, 삼성 ARN 등과 장기적이고 안정적인 협력 관계를 맺음
- 2020년에 개발한 CMCLi 접착제 생산라인이 완공되어 현재 양산 시작 
-회사의 고순도 과산화수소수 이미 국산화 대체를 실현하여 주류 반도체 고객사에게 대량으로 공급중
- 고순도 암모니아수 역시 이미 대량 공급을 실현하여 현재 생산과 판매 모두 양호한 시세에 처해 있음
-회사의 고순도 황산은 이미 5월에 생산되었고, 제품의 품질은 G5 수준에 달성