한국머크는 반도체 포토리소크래피 공정에 쓰이는 친환경 용매 제품 'AZ 910 리무버'를 출시했다고 23일 밝혔다. 

AZ 910 리무버는 인체에 유해한 NMP 기반 화학구조를 사용하지 않고도 패터닝된 포토레지스트를 빠르게 용해할 수 있는 게 특징이다.

통상 반도체 제조에 사용되는 NMP 기반의 용매는 네거티브 및 포지티브 톤 포토레지스트를 웨이퍼 표면에서 들어올려 제거한다. 네거티브 톤 포토레지스트는 포토공정에 레지스트를 더 적합하게 만들기 위해 가교 반응과 같은 화학반응을 거치는데, 가교된 레지스트는 용해와 제거가 어렵다.

이에 비해 AZ 910 리무버는 네거티브와 포지티브 톤 포토레지스트를 모두 용해해 제거하는 방식이다. 제거공정에 걸리는 시간을 반으로 줄일 수 있고 화학구조와 필터 수명도 연장할 수 있다. 

또한 NMP 외에 디메틸아세트아마이드(DMAC), 다이메틸설폭사이드(DMSO), 테트라메틸암모늄하이드록사이드(TMAH) 등 유해물질도 들어있지 않다.

아난드 남비아 머크 반도체 소재사업부 대표는 "AZ 910 리무버는 포토레지스트의 전체 부피에 3배 미만의 용액으로도 충분히 포토레지스트를 제거할 수 있다"며 "비용을 절감하는 동시에 친환경성도 갖췄다"고 설명했다. 

이어서 "1갤런의 AZ 910 리무버만으로도 네거티브 톤 레지스트가 커버리지의 80%을 차지하는 8인치 웨이퍼 250개 이상을 세정할 수 있다"며 "습식화학 공정을 단순화 해준다"고 덧붙였다.

AZ 910 리무버는 미세전자기계시스템(MEMS), 자동차, 전력 집적 회로(IC), 웨이퍼 단계의 패키징 디바이스 시장을 타겟으로 한다.