비코 IBD 장비 없이 현재로선 EUV 블랭크마스크 생산 불가능
장비 도입 추진은 기술적으로 어느 정도 완성됐다는 의미로 해석
2022-09-19 강승태 기자
반도체·디스플레이 블랭크마스크 전문기업 에스앤에스텍의 EUV(극자외선) 블랭크마스크 생산이 임박했다. EUV 블랭크마스크 생산을 위한 핵심 장비 도입을 추진하는 등 본격적인 생산 준비에 나서고 있는 것으로 파악됐다.
19일 업계에 따르면 에스앤에스텍은 최근 미국 반도체 장비기업 비코 인스트루먼츠(Veeco Instruments)로부터 IBD(Ion Beam Deposition, 이온빔 증착) 장비 도입을 추진 중이다.
업계 한 관계자는 “에스앤에스텍이 비코의 장비를 구입하기 위해 여러 차례 접촉한 것으로 안다”며 “비코의 IBD 장비를 구입한다는 것은 어느 정도 EUV 블랭크마스크 생산 기술을 확보했다는 뜻으로 해석할 수 있다”고 말했다.
비코는 반도체 제조·연구용 공정 장비 전문기업이다. 특히 비코의 IBD로 EUV 블랭크마스크를 제작하면 결함률이 급격히 떨어지는 것으로 알려졌다. 국내 EUV 최고 전문가로 꼽히는 안진호 한양대 신소재공학과 교수는 “현재로서는 비코 IBD 없이 EUV 블랭크마스크를 생산할 수 없다”며 “일본 주요 EUV 블랭크마스크 업체도 대부분 비코 IBD를 쓰는 것으로 안다”고 설명했다.
블랭크마스크는 반도체·디스펠레이 노광 공정의 포토마스크 제조에 쓰이는 핵심 소재다. 회로가 새겨진 포토마스크를 반도체 웨이퍼 위에 올려놓고 빛을 통과시키면 회로의 모양대로 투과된 빛이 웨이퍼에 닿아 패턴이 만들어진다. 이 포토마스크가 생성되기 전 깨끗한 상태의 원판 필름이 바로 블랭크마스크다.
에스앤에스텍은 2002년 블랭크마스크 국산화에 성공한 뒤 삼성전자와 SK하이닉스 등 국내 기업을 넘어 미국과 중국, 대만 등으로 판로를 확대하고 있다.
EUV 공정에 들어가는 블랭크마스크는 제작이 더 까다롭다. 몰리브덴(Mo)과 실리콘(Si)을 여러 겹 쌓은 특수한 소재로 만든다. 기존 불화아르곤(ArF) 광원을 활용한 DUV 노광 공정용 마스크와 원리가 다르고 난이도가 훨씬 높다.
아쉽게도 EUV 블랭크마스크는 국산화가 전혀 이뤄지지 않은 분야다. 삼성전자 등 국내외 반도체 기업은 모두 호야, 아사히글라스 등 일본 기업으로부터 수입하고 있다. 호야는 삼성전자와 SK하이닉스 등 국내 업체, 아사히글라스는 인텔 등에 제품을 공급하고 있는 것으로 전해진다. 만약 에스앤에스텍이 EUV 블랭크마스크 국산화에 성공한다면 국내 반도체 소재·부품 생태계 발전에 큰 영향을 줄 것으로 기대된다.
이종림 에스앤에스텍 부사장은 “정확한 일정을 밝힐 수는 없지만 EUV 블랭크마스크는 계획대로 개발이 순조롭게 진행되고 있다”고 말했다.