삼성전자가 올해 안에 끝내기로 했던 평택3공장(P3) 파운드리 라인 완공이 사실상 해를 넘길 것으로 예상된다. P3 파운드리 라인의 클린룸 구축 예정 시기가 4분기 초에서 4분기 말, 4분기 말에서 다시 내년 1분기로 밀리고 있는 것으로 파악됐다. 클린룸 구축 이후에 필요한 부대설비와 팹 제조장비의 도입 시기도 연기될 것으로 전망된다. 

10일 반도체 장비업계에 따르면 삼성전자는 지난달 말부터 P3 파운드리 라인 내 클린룸에 필요한 인프라 장비 설치를 시작했다.

P3는 삼성전자가 지난 2020년 중순 착공에 들어간 신규 반도체 공장이다. 건축허가 면적은 70만㎡로 단일 공장 기준 세계 최대 규모에 해당한다. 라인 구축은 낸드플래시, D램, 파운드리 순이다. 이 가운데 낸드 라인은 지난 9월부터 본격 가동되기 시작했다. D램 라인은 클린룸 구축이 완료돼 지난달부터 장비가 소량 입고되기 시작했다.

당초 삼성전자는 파운드리 라인을 포함한 P3 공장 전체를 연내 완공하겠다는 목표를 세웠다. 그러나 이전 낸드 라인부터 클린룸 구축 및 장비 도입 시점이 한 달 가량 지연되면서, 이후의 라인의 일정도 조정이 불가피하게 됐다. 업계에선 파운드리 라인의 클린룸 구축 예정시기가 올해 9~10월에서 11~12월로 1분기 가량 밀릴 것으로 내다봤다.

그러나 최근 삼성전자의 라인 구축 속도를 고려하면 이같은 일정은 또 연기될 것으로 보인다. 삼성전자는 지난달 말부터 P3 파운드리 라인에 C.C.S.S 등 클린룸 구축에 필요한 장비를 도입하기 시작했다. 해당 장비는 올해 연말까지 셋업된다. 장비 셋업 뒤에도 클린룸 구축에 일정 시간이 더 소요되기 때문에, 실제 클린룸 가동(Turn-On)은 이르면 내년 1분기부터 가능하다는 게 업계 관측이다.

클린룸 시공 일정에 따른 관측도 이와 동일하다. 통상 반도체 팹 내 클린룸 구축에는 시공 시점부터 6개월에서 최대 1년이 필요하다. 삼성전자는 협력사들을 통해 지난 7월부터 P3 파운드리 라인의 클린룸 시공해온 것으로 알려졌다.

이에 따라 P3 파운드리 라인의 클린룸 구축 뒤에 들어설 부대설비·제조장비의 도입 시기도 빨라야 내년 1분기가 될 전망이다. 업계 관계자는 "올해 상반기부터 일부 전공정 장비들이 2~3개월 지연되는 상황이 반영되면서 전체적으로 착공 시기가 미뤄진 것으로 안다"며 "P3 파운드리 라인향 장비 도입 시점을 12월 초로 보고 있었는데, 내년 1분기로 미룰 수 밖에 없는 상황"이라고 설명했다.

이에 대해 삼성전자 관계자는 "기존 P3 착공 계획과 관련해 특별히 변경된 사항은 아직 없다"고 밝혔다.

디일렉=장경윤 기자 jkyoon@bestwatersport.com
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