"부쉬의 EUV 공정용 진공 시스템은 ASML 및 반도체 제조업체의 까다로운 요구사항을 모두 만족시킨 것이 특징이다. 앞으로도 EUV 노광장비의 발전에 맞춰 흡입량과 효율성을 높인 차세대 제품을 개발할 계획이다. 현재 주요 고객사들과의 평가가 긍정적으로 진행되고 있다."

최윤진 부쉬코리아 대표는 8일 《디일렉》이 개최한 '2022 반도체 EUV 글로벌 생태계 콘퍼런스'에서 EUV 공정용 진공시스템 개발 전략에 대해 이같이 밝혔다.

부쉬는 진공펌프 및 시스템 전문업체다. 전세계 유일의 EUV 노광장비 제조업체인 ASML과 EUV 공정용 진공시스템(EUV pre-vaccum system)을 공동 개발하면서 반도체 업계의 주목을 받았다. EUV는 주변 물질에 흡수되는 성질이 강해, 기존 대기 환경에서 진행하던 KrF, ArF 공정과 달리 높은 수준의 진공 환경에서 공정을 진행해야 한다.

최윤진 부쉬코리아 대표는 "지난 2020년 ASML으로부터 EUV pre-vaccum system에 대한 퀄을 받았고, 현재는 국내 주요 반도체 제조업체와 20여개 이상의 프로젝트에 대한 평가를 진행 중"이라며 "고객사가 요구하는 매우 까다로운 스펙을 구현했다"고 설명했다.

EUV pre-vaccum system의 가장 큰 특징은 장비 가동률을 최대로 보장한다는 점이다. 해당 시스템은 최대 10개(기본 7, 예비 3)의 펌프와 최대 2개(기본 1, 예비 1)의 저감장치로 구성된다. 통상 펌프가 주변을 진공 상태로 만드는 과정에서 수소와 주석 수화물 등이 나오게 되는데, 이를 저감장치가 처리하는 방식이다. 만약 저감장치가 작동을 멈추면 수소로 인한 폭발의 가능성이 있어, 공정은 멈추게 된다. 특히 EUV 공정은 단시간 가동 중단으로도 큰 손실을 입을 수 있다. 

반면 EUV pre-vaccum system는 저감장치 2대가 모두 고장나는 경우에도 공정이 멈추지 않도록 저감을 지속하는 별도의 시스템을 갖추고 있다. 별도 시스템 작동 시의 수소는 0.08%로 유지된다. 현재 반도체 제조업체가 요구하는 수소의 최대 유지 농도는 1%로, 부쉬는 이보다 크게 낮은 수준을 구현하고 있다. 저감 방식도 친환경적인 전기 분해 방식을 활용한다.

향후 부쉬는 ASML의 EUV 노광장비가 고도화됨에 따라 이에 맞춘 장비 개발을 지속할 계획이다. 더 큰 흡입량(SLM)과 낮은 압력(Pa)을 구현하는 게 목표다. 장비 사이즈및 에너지 효율, 질소 절감 등도 함께 개선한다.

최윤진 대표는 "차세대 제품은 새로운 펌프 및 저감장치를 활용해, 기존 제품 대비 2배의 성능을 낼 수 있는 수준으로 개발을 완료했다"며 "글로벌 반도체 제조업체와 프로모션을 긍정적으로 진행하고 있다"고 밝혔다.