반도체 장비 제조 기업 세메스가 국내 최초로 플라즈마 타입의 반도체 건식 세정장비를 양산∙개발했다.
건식 세정방식의 장비 ‘퓨리타스’는 웨이퍼에 다이렉트 플라즈마(Direct Plasma)를 쓰지 않고 리모트 플라즈마(Remote Plasma)를 사용한다. 플라즈마가 발생하는 장소와 영향을 주는 대상의 표면이 떨어져 있다.
기판에 손상이 덜 가해지고, 고선택적 측면 식각도 가능하다. 기존의 습식 세정방식은 반도체 패턴(미세회로)의 미세화, 고집적화 추세에 따라 한계를 마주했다.
세메스는 퓨리타스가 차세대 디바이스로 불리는 3D-DRAM, 상보형 구조의 트랜지스터(CFET∙Complementary FET), 게이트올어라운드(GAA) 모듈 제작에 필수적으로 사용될 것으로 기대했다.
최길현 세메스 최고기술책임자(CTO)는 “올해 양산 1호기 출하를 시작으로 향후 3D 제품(메모리∙로직) 전환시 수요가 늘어날 것"이라고 전망했다.