반도체 습도제어 솔루션 전문기업 저스템은 습도를 1% 수준으로 제어할 수 있는 신제품 ‘JFS U1’을 개발했다고 8일 밝혔다. 2016년 4월 창업한 저스템은 반도체 수율 향상에 도움을 주는 ‘질소순환기’를 주력으로 만드는 회사다. 외부 기관으로부터 검증을 받은 ‘JFS U1’은 기존의 EFEM에 장착해 25매 전 슬롯이 습도를 1% 수준으로 제어한다. 그간 회사는 JFS U5 양산 평가에서 습득한 노하우와 저스템 특허인 ‘Laminar Flow’ 기술과 새로운 특허 기술을 적용해 세계 최고 수준의 기술 성능을 구현했다. ‘JFS U1’은 내년 초부터 양산 라인 평가에 들어가 내년 말부터 1% 습도관리가 필요한 중요 공정에 적용될 것으로 예상된다. 저스템 관계자는 “JFS U1 제품이 풉(FOUP) 내 습도를 최소화하고 수율을 향상시킬 수 있는 반도체 오염제어 시스템의 새로운 모멘텀이 될 수 있을 것으로 예상된다”고 전했다. 한편 저스템의 ‘JFS U5’(Under 5%) 제품은 글로벌 업체의 대만 팹(Fab) 성능평가를 거쳐, 웨이퍼 25매 전체 위치 습도 3.5% 수준의 평가를 받았다. 현재 신뢰성 평가를 진행 중이며 일본 팹(Fab), 싱가폴 팹(Fab)의 장비에서 추가적인 평가를 진행 중이다. ‘JFS U5’는 중소기업 혁신과제로 개발이 진행됐으며 내년부터 양산 장비에 적용될 예정이다.

디일렉=강승태 기자 [email protected]
《반도체·디스플레이·배터리·전자부품 분야 전문미디어 디일렉》