풉(FOUP) 클리너 장비 제조기업 ISTE가 주력인 풉 클리너에 이어 플라즈마화학기상증착(PECVD) 장비 시장에 도전한다. 조창현 ISTE 대표이사는 5일 열빈(서울 영등포구)에서 열린 기업공개(IPO) 기자간담회에서 “PECVD 시장은 풉 클리너 시장과 비교해 약 30배 더 크다"며 "성공적으로 진입해 새로운 성장동력을 확보해 나갈 것”이라고 말했다. ISTE는 2021년 SK하이닉스와 공동으로 PECVD 국책과제 수행을 통해 실리콘 카본 나이트라이드(SiCN) PECVD 장비를 국산화하는 데 성공했다. 비메모리∙메모리 반도체 분야에서 SiCN PECVD 박막 수요가 증가하고 있지만 외산 장비에 의존하는 것이 현실이다. 조 대표는 “퀄 테스트 통과 후 현재 본격 양산을 검증하고 있다”고 말했다. 현재 사업은 풉 클리너 중심이다. 풉은 웨이퍼를 최대 25장까지 담는 용기다. 팹(반도체 제조 공장) 안의 웨이퍼들은 풉에 담긴 상태로, 천장의 OHT(Overhead Hoist Transport)에 매달려 레일을 따라 옮겨진다. 1000도 이상의 고온 공정을 거친 웨이퍼가 담길 때는 열로 인해, 풉 안에 김이 발생한다. 풉 내부나 웨이퍼 표면에 금속 불순물 등의 형태로 붙어 궁극적으로 수율을 떨어뜨린다.  ISTE는 자체 기술을 접목해 이 풉의 뚜껑과 몸체를 분리해 세정하는 장비를 개발했다. 기존에는 둘을 한꺼번에 세정하는 방식이었다. 새 장비는 ▲세정력 ▲건조 효율성 ▲생산 효율성 등이 모두 높아졌다. 2016년부터 SK하이닉스에 독점 공급 중이며, 향후 삼성전자향 매출을 늘릴 계획이다. 조 대표는 “해외사 점유율을 가져와 자사의 폭을 넓히는 것이 목표”라고 말했다. 삼성전자향 풉클리너를 공급하는 국내 업체로는 디바이스이엔지가 있다.  반도체 기술 고도화에도 선제적으로 대응한다. 고대역폭메모리(HBM)용 400㎜ 풉 클리너를 국내 최초로 개발한 데 이어, 세계 최초로 PLP(Panel Level Packaging)용 풉 클리너를 개발했다. 삼성전기, 네패스 등 기업에 공급 중이다.  ISTE는 2013년에 설립됐다. 주요 임원으로는 SK하이닉스 출신이 많다.  지난 2일부터 6일까지 공모가 산정을 위해 기관투자가 대상 수요예측을 진행 중이다. ▲1주당 공모 희망가액 9,700원~1만1400원 ▲총 공모금액은 155억원~182억원이다. 공모희망가 기준 시가총액은 902억~1061억원이다. 공모가 확정 후 오는 10일과 11일 양 이틀간 청약을 진행, 20일 코스닥에 입성할 계획이다. 상장을 통해 확보한 공모자금은 생산능력 확장을 위한 ▲신규 공장 부지 취득 ▲PECVD장비 개발∙사업화를 위한 운영 자금 ▲채무 상환 등에 활용할 예정이다.