○노광장비 업체 CFMEE, 과창판 상장
- 4월 1일 허페이 CFMEE(Circuit Fablgy Mcrlctrncs Eqpmnt, 芯碁微)가 과창판에 상장했음. 중국 노광장비로선 첫 과창판 상장.
- 뤄윈펑(罗云峰) 허페이시 부주석에 따르면 허페이시 2020년 GDP 1조위안 돌파, 연간 신규 상장기업 12개로 전국 성급도시 중 2위, 신규 과창판 상장기업 7개로 전국 1위.

○CRMEE
- 14차 5개년 허페이시 첫 상장기업.
- 2015년 6월 30일 설립.

- 다이렉트 라이팅(Direct Writing) 리소그래피(Lithography)가 핵심기술인 DI(Direct Imaging)장비 및 다이렉트 라이팅 리소그래피 장비를 연구개발, 제조, 판매, A/S하는 국가하이테크기업.
- 핵심기술 연구원 80명(성급기술선도인재 3명 포함). 
- 핵심기술특허 150개 이상.
- “공신부 혁신적인 작은 거인”, “2019년도 중국반도체산업100대기업”, “2019년 ‘메이커차이나’ 중소기업혁신대회 결선 2위”, “제8회 중국벤처대회 첨단제조산업 전국 총결선 성장조 2위” 등 수상. 
- “안후이성 기업기술중심”, “허페이시 외국전문가공작실”, “박사후연구실” 등 기업 자격요건 획득.