반도체 장비 기업 예스티는 최근 경쟁사인 HPSP가 제기한 고압 어닐링 장비 관련 특허소송에 적극 대응하겠다고 8일 밝혔다.  예스티 관계자는 "고압 어닐링 장비 개발단계부터 이런 분쟁을 예상하고 특허와 관련해 다수의 특허법인 및 법무법인과 다각적인 기술적·법률적 검토를 마친 상태"라며 "경쟁사 특허침해 주장은 근거가 없기 때문에 이번 특허소송에 적극 대응하겠다"고 말했다. 예스티는 지난 2021년부터 자체 고온·고압 제어기술을 고압 어닐링 장비를 개발해왔다. 개발과정에서 압력 챔버에 관한 특허 등 여러 건의 특허도 출원했다. 예스티는 "해당 특허들은 고압 어닐링 장비의 핵심기술로 진입장벽 역할을 할 것으로 기대된다"고 설명했다. 고압 어닐링 장비는 반도체의 핵심공정 중 하나인 어닐링 공정에 사용되는 장비다. 어닐링 공정은 반도체의 실리콘(Si) 표면 결함을 고압의 수소·중수소로 치환해 신뢰성을 향상시킨다.  한편, 예스티는 최근 글로벌 반도체 기업과 고압 어닐링 장비 사용화를 위한 테스트를 성공적으로 마친 것으로 알려졌다. 현재 양산 테스트를 위한 준비절차에 착수했으며, 또 다른 글로벌 반도체 기업과도 고압 어닐링 장비 공정 테스트를 진행하고 있다.

디일렉=노태민 기자 [email protected]
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