도쿄일렉트론코리아(TEL)는 지난 20일 서울 관악구에 위치한 서울대학교 공과대학에서 원제형 대표이사가 초빙강연을 가졌다고 26일 밝혔다.
이번 강연은 한국반도체디스플레이기술학회(반디학회) 산하 공정진단제어기술연구회에서 주관하는 행사로, 산∙학∙연에서 개발된 10개의 공정진단제어 관련 기술을 소개하는 자리다. 공정진단제어기술연구회는 공정진단제어 기술 발굴과 기술 협업, 인력 양성 방안을 찾고 있는 모임이다.
이날 강연에서 원제형 대표이사는 ‘반도체 장치용 플라즈마 강화 공정 기술’을 주제로 강연하며 반도체 시장 동향에 이어 미세화 공정에 기여할 극저온 식각(Cryogenic Etch) 기술, 고대역폭메모리(HBM)의 중요성에 대해 소개하고 향후 발전 전망과 비전 등을 제시했다. 강연이 끝난 뒤에는 질의응답 시간을 갖고 학회원들의 질문에 답했다.
원제형 대표는 "공정진단연구회는 초창기 18년 전 창립 때부터 참가하였고 그 때 연구회에서 발표를 했는데, 18년이 지나 다시 만나 뵙게 되어 특히 감회가 새롭다"며 소감을 밝혔다. 이어 "지속적인 참여를 통해 반도체 분야 산∙학∙연 협력을 위한 노력을 계속 이어갈 것"이라고 말했다.
디일렉=노태민 기자 [email protected]
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