ACM 리서치는 300mm 웨이퍼 공정용 Ultra C wb 습식 벤치(wet bench) 장비 29대를 수주했다고 24일 밝혔다. 이번 주문은 중국 고객사로부터 수주한 것으로, 16대는 중국 내 기존 고객사의 팹 확장을 위한 재주문 수량에 해당한다. 해당 장비들은 올해부터 2단계로 나눠 배송될 예정이다. ACM 리서치의 Ultra C wb 습식 벤치 장비는 SC1, SC2, DHF, DIO3, DIW 등과 같은 다중 세척 화학물질을 프로그램된 순서로 공급할 수 있는 독립적인 처리 모듈과 다중 화학 세척(MCR) 모듈을 지원한다. 또한 화학 물질과 탈이온수(DIW)를 효율적으로 사용하여 환경에 친화적이다. ACM 리서치의 회장 겸 CEO인 데이비드 왕 박사는 "이번 사례를 통해 ACM의 기술 능력과 시장 리더십 및 고객 요구에 대한 대응 능력을 입증했다"며 "첨단 저압 건식 세정 기술을 포함한 ACM의 벤치 제품은 거의 모든 세정 공정 단계를 지원할 수 있게 되었다"고 말했다. 이와 함께 ACM 리처시는 지난해 3분기에 첫 번째 신규 ULD(Ultra Low Pressure Drying) 모듈을 중국 내 메모리 반도체 제조 선도기업에 출하했다. 해당 ULD 벤치 모듈은 저압 IPA(isopropyl alcohol) 건조 공정을 사용해 열처리 전 세정, 이온 주입 후 세정 및 건식 식각 후 포토레지스트 제거, CMP 세정 및 막 증착 전 사전 세정, 산화물 식각 및 질화물 제거 등의 공정에 대응한다.