파크시스템스가 AFM(원자현미경) 기반의 마스크 리뷰장비 사업을 올 하반기부터 본격적으로 추진한다. 9일 업계에 따르면 파크시스템스는 AFM 기반의 EUV용 마스크 리뷰장비를 올 하반기 공식 상용화하는 방안을 추진 중이다. AFM은 미세한 탐침을 시료 표면에 원자 단위까지 접근시키고, 탐침과 표면 간의 상호작용을 통해 시료의 구조를 측정하는 장비다. 전자현미경(SEM) 대비 더 정밀한 최고 수천만 배의 배율로 나노미터(nm) 수준의 계측이 가능하다. 시료의 전자기적·기계적·광학적 특성 등 다양한 성질을 분석할 수 있다는 점도 주요 특징이다. 파크시스템스는 이 AFM 기술을 기반으로 한 EUV용 마스크 리뷰장비를 국내 최초로 개발했다. 해당 장비는 파티클·범프 등 마스크 상에서 발생할 수 있는 결함의 물성을 EUV 공정이 요구하는 미세한 단위까지 분석할 수 있다. 분석을 완료한 후에는 탐침을 이용해 각 물성에 따라 최적화된 방식으로 결함을 개선하는 작업을 수행한다.  파크시스템스는 주요 파운드리 업체의 EUV 공정에 해당 장비를 도입해 필드 테스트를 진행해왔다. 이후 지난해 말 테스트를 마무리지었으며, 올 1분기 테스트 업체로부터 추가 물량을 수주받는 데 성공했다. 아울러 파크시스템스는 다른 반도체 업체들과 AFM 마스크 리뷰장비에 대한 공급 계약을 체결한 것으로 알려졌다. 기존 및 신규 고객사로부터 견조한 수요를 확인한 파크시스템스는 이르면 올 하반기 AFM 마스크 리뷰장비를 공식적으로 상용화할 것으로 전망된다. 이를 위해 다양한 고객사의 공정에 맞춰 장비를 최적화하는 연구개발을 진행하고 있다. 파크시스템스 관계자는 "반도체 공정이 급격히 미세화되면서 AFM의 활용도 또한 높아지는 추세"라며 "지금까지는 AFM 마스크 리뷰장비를 개별 수주 형식으로 공급해왔으나, 수요가 지속될 것으로 보여 올 하반기에 공식 런칭하는 방안을 추진하고 있다"고 밝혔다. AFM 마스크 리뷰장비 사업이 순항하는 경우, 파크시스템스도 반도체 분야의 매출을 크게 올릴 수 있을 것으로 예상된다. AFM 마스크 리뷰장비는 기존 반도체 산업에 공급해 온 AFM 장비 대비 제품 가격이 2배가량 높다. 주요 반도체 업체를 중심으로 EUV 공정이 활성화되고 있는 만큼, AFM 마스크 리뷰장비에 대한 수요도 함께 늘어날 가능성이 높다.