나노기술 소재부품 전문기업 시노펙스가 생산라인 구축을 통해 10나노 이하급 첨단 반도체 필터 국산화에 도전한다. 시노펙스는 10나노급 첨단 반도체 케미컬여과용 AF필터 생산 시설구축을 위한 설비투자를 결정했다고 9일 밝혔다. AF필터는 ePTFE 소재를 사용하는 필터다. ePTFE 소재는 반도체 세정공정에서 사용되는 불산, 황산, 질산 등 강산에도 강하며 나노급 크기의 불순물을 제거할 수 있으나 현재 필터 자체에서 발생 가능한 용출물 농도 관리로 인해 전량 수입에 의존하고 있다. 시노펙스는 ePTFE 소재를 국내 최초로 개발에 나섰다. 초미세화되는 반도체 산업의 흐름에 따라 10나노 이하의 필터가 필수적이라 판단했기 때문이다. 2019년부터 국책과제로 연구개발을 시작했으며 2020년 ePTFE 소재 벤처기업인 프론텍을 흡수합병한 바 있다. 지난 3월에는 20나노급 파일롯 시설을 갖춰 해외 글로벌 업체수준의 R&D 역량을 확보했다. 이번에 투자하는 ePTFE 생산설비는 국내에서 처음 적용되는 멤브레인 필터 기술을 포함하고 있다. 멤브레인 필터 기술은 필터의 기공사이즈가 성인 평균 머리카락 두께의약 1만분의 1에 해당하는 10나노급의 초미세 기공을 만들 수 있다. 석유민 시노펙스 R&D 센터장은 “반도체 핵심 공정중 하나인 세정공정용 10나노급 여과기술은 최근 국내 반도체 산업내 소부장 공급망 안정을 위해 AF필터를 개발하게 됐다”며 “금번 생산시설 완공 및 양산화 시점인 2024년 하반기에는 15나노급의 양산용 제품을 출시할 예정”이라고 밝혔다. 이어 석 센터장은 “향후 2025년 말까지는 3나노급 필터기술 개발과 양산 적용을 동시에 진행해 현재 글로벌 필터회사가 독점하고 있는 반도체용 케미컬 필터시장을 대체해 나갈 계획”이라고 전했다. 이와 관련, ePTFE는 반도체 생산 공정 외에도 바이오, 제약, 수소연료전지, 고청정 크린룸용 울파 필터 등 다양한 산업분야에서 사용되고 있으며 글로벌 시장규모는 연간 약 3조원 이상으로 전망된다.

디일렉=이민조 기자 [email protected]
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