반도체 식각장비 전문업체 에이피티씨가 지난해 6종이던 제품 라인업을 올 들어 3종으로 줄였다. 상대적으로 구형장비이거나 시장수요가 부족한 장비를 정리하고 주력 제품에 집중하기 위해서다.
30일 업계에 따르면 에이피티씨는 올 들어 플라즈마 식각장비 일부와 도핑장비를 판매 라인업에서 제외했다.
에이피티씨는 300mm 웨이퍼용 플라즈마 식각장비를 주력으로 하는 회사다. 식각공정은 반도체 회로를 그리는 포토공정을 마친 웨이퍼에서 회로 패턴을 제외한 나머지 필요 없는 부분을 제거하는 과정이다. 플라즈마 식각은 반도체가 놓인 진공 챔버 안을 플라즈마 상태로 만들어 불필요한 물질들을 제거하는 공정을 의미한다.
에이피티씨는 폴리실리콘 식각장비인 '레오 NK I'를 기점으로 '레오 NK I-C', '레오 NK II' 등 다양한 모델을 내놓고 있다. 지난해 말에는 레오 NK-IC 대비 정밀도와 신뢰성을 높인 '레오 WH'와 메탈 식각장비인 '나르도-M'을 상용화했다. 플라즈마 도핑장비인 'APIS300'도 판매해왔다.
이 가운데 주력 제품은 지난 2016년 양산을 시작한 레오 NK I-C다. 미국 램리서치, 어플라이드 머티어리얼즈 등 주요 경쟁업체들이 시장을 독과점한 상황에서도 SK하이닉스 우시법인에 장비를 납품하는 데 성공했다.
신규 장비인 레오 WH, 나르도-M도 각각 SK하이닉스의 낸드플래시, D램 공정에 납품 중이다. 이수빈 대신증권 연구원은 "(에이피씨는) 올해 하반기부터 레오 WH를 D램향으로도 공급하고 나르도-M 또한 낸드플래시향으로 공급하며 신규 공정에 진입할 것으로 예상한다"며 "포트폴리오를 다각화할 수 있을 것"이라고 말했다.
에이피티씨는 반면 레오 NK I과 레오 NK II의 경우 올 1분기에, 도핑장비인 APIS300는 올 2분기 판매 라인업에서 뺐다. 이들 장비를 제외하는 대신 고객사로부터 좋은 반응을 이끌어내고 있는 제품에 집중하기 위한 전략으로 풀이된다.
에이피티씨 관계자는 "내부 검토를 거쳐 현재 사실상 판매가 중단된 제품들을 리스트에 기재하지 않기로 했다"며 "최근 제외한 도핑장비 또한 수요 등을 고려해 제외했다"고 설명했다.
