네덜란드 ASML이 극자외선(EUV) 노광장비 지배력을 강화한다. 0.33 렌즈 개구수(NA: Numerical Aperture) 장비 ‘NXE:3800E’를 내년 공급한다. 하이(High) NA 즉 0.55 NA 장비는 2025년 상용화 예정이다.

12일 ASML코리아는 《디일렉》이 주최한 ‘어드밴스드 리소그래피&패터닝 테크 콘퍼런스 2023’에서 ‘향후 10년 EUV 로드맵(EUV roadmap to the decade)’를 공개했다.

EUV 노광장비는 ASML이 독점 생산한다. 3nm 이상 시스템반도체와 10nm급 D램 제조에 활용한다. ▲TSMC ▲삼성전자 ▲인텔 ▲SK하이닉스 ▲마이크론 등이 주요 고객사다.

ASML코리아 정진항 상무는 “2018년 양산 장비 출시 후 2023년 3분기까지 213대의 0.33 NA 장비를 납품했으며 대당 하루 3000장 가량의 웨이퍼를 소화하고 있다”라며 “이는 일 3000장 이상 생산능력을 갖춘 장비가 필요해졌다는 뜻”이라고 평가했다.

2024년 신제품 NXE:3800E는 시간당 최대 220장의 웨이퍼를 다룰 수 있다. 기계 일치 오버레이(MMO: Matched Machine Overlay)는 0.9nm다. 전작대비 속도는 생산량은 40% MMO는 0.2nm 개선했다.

정 상무는 “생산성 향상을 위해 웨이퍼 처리 속도 향상은 물론 레이저 조사 강도를 높이고 계측 센서를 2개로 늘렸다”라며 “그럼에도 불구 2018년 처음 나왔던 장비에 비해 웨이퍼당 에너지 소모량은 42% 수준까지 줄였다”고 설명했다.

0.55 NA 장비는 2025년 선적을 개시한다. 0.55 NA 장비는 하이 NA 장비라고도 부른다. 현재 0.33 NA 장비를 이용하는 모든 업체가 0.55 NA 장비 도입을 확정했다. NA값이 올라가면 더 미세한 회로를 그릴 수 있다.

정 상무는 “연구개발(R&D)용 0.55 NA 첫 장비 ‘EXE:5000’은 4분기 공급했으며 양산용 0.55 NA 장비 ‘EXE:5200B’는 2025년부터 선적이 이뤄질 예정”이라며 “미국 독일 등에서 만든 4개 모듈을 네덜란드 본사에서 조립해 납품하는 형태”라고 말했다.

EXE:5200B는 MMO 0.8nm 시간당 웨이퍼 처리량 220장이 목표다.

정 상무는 “하이 EV 공정 전환과 포토레지스트(PR)와 마스크 등 생태계 지원을 위한 연구도 지속하고 있다”라며 “반도체 시장은 현재 주춤하기는 하지만 2030년 1조달러 규모까지 성장할 것이며 이에 맞춰 ASML도 적기에 장비를 공급할 수 있도록 노력할 것”이라고 덧붙였다.

디일렉=윤상호 기자 [email protected]
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